IMP工藝氣體傳輸控制柜
離子注入（IMP:-mplant）通過精確控制離子能量、注入劑量和溫度等參數(shù)，可以實現(xiàn)對材料表面性能的優(yōu)化和新性能的獲取，為半導(dǎo)體、材料科學(xué)、生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域的發(fā)展提供了有力支持。離子注入工藝氣體傳輸控制柜是離子注入設(shè)備的重要組成部分，它負(fù)責(zé)在離子注入過程中精確控制氣體的流量、壓力等關(guān)鍵參數(shù)，以滿足離子注入工藝對氣體供應(yīng)的嚴(yán)格要求。該控制柜集成了高精度的流量控制、壓力調(diào)節(jié)以及安全保護功能，確保離子注入工藝的穩(wěn)定性和安全性。
咨詢專家
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產(chǎn)品特點
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產(chǎn)品參數(shù)
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質(zhì)量管理
產(chǎn)品特點
高精度流量控制
流量控制器和壓力調(diào)節(jié)器采用高精度設(shè)計，能夠確保氣體流量和壓力的精確控制
通過對氣路部分設(shè)計滿足客戶對小流量、低壓力的氣體流量控制，最終滿足客戶的工藝要求
安全穩(wěn)定性
氣柜配有門互鎖開關(guān)、壓力安全開關(guān)、單向閥、手動進切斷閥等安全部件保證氣柜安全
設(shè)備采用全304不銹鋼，外觀30mm以上圓弧過渡設(shè)計保證良好導(dǎo)電性，提高了設(shè)備的安全性能。
高氣密性
產(chǎn)品采用IGS和VCR接口形式
實現(xiàn)半導(dǎo)體設(shè)備的高氣密性
模塊化
采用模塊化設(shè)計，設(shè)備結(jié)構(gòu)緊湊、模塊化設(shè)計
便于維護和更換部件。nm以上的顆粒雜質(zhì)
安全認(rèn)證
通過SEMI S6測試安全認(rèn)證
產(chǎn)品參數(shù)
| 外漏測試漏率 | ≤1.0X10-11/mbar·L/s |
| 內(nèi)漏測試漏率 | ≤1.0X10-9/mbar·L/s |
| 保壓測試50psi | 氮氣保壓測試，保壓12h，壓降 ≤1% |
| 氦爆測試漏率 | ≤1.0X10-9/mbar·L/s;（可選） |
| 顆粒測試 | (5 particle @ >0.1um) |
| 水氧測試 | 水含量≤10PPB，氧含量≤10PPB；（可選） |
質(zhì)量管理
富創(chuàng)質(zhì)量管理秉承"好的質(zhì)量是設(shè)計、制造出來的"為原則,關(guān)注客戶端到端的質(zhì)量服務(wù),從研發(fā)、設(shè)計、過程全生命周期質(zhì)量管理關(guān)注各環(huán)節(jié)中入口質(zhì)量、過程質(zhì)量、出口質(zhì)量,以保證整體質(zhì)量可控,最終構(gòu)建成以以預(yù)防為主的質(zhì)量文化,助力客戶產(chǎn)品更具競爭力。
